集成电路布图设计专有权（以下简称“布图设计权”）与专利权是两种独立的知识产权，保护对象和条件不同。1. 保护对象：布图设计权保护的是集成电路中元件和互连线路的三维配置（即布图设计），无论其是否具有功能性（《集成电路布图设计保护条例》第二条）。专利权（发明或实用新型）保护的是技术方案本身，即解决特定技术问题所采用的方法或产品结构。2. 保护条件：布图设计要求具有“独创性”，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计（《条例》第四条）。专利权要求具备“新颖性、创造性、实用性”。3. 取得方式：布图设计权经国家知识产权局登记产生（《条例》第八条），无需实质审查。专利权需要经过申请和审查（发明为实质审查，实用新型和外观设计为初步审查）才能授权。4. 保护期限：布图设计权保护期为10年，自登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准（《条例》第十二条）。发明专利权保护期为20年，实用新型为10年，外观设计为15年，均自申请日起计算。简单说，布图设计权保护芯片的“物理版图”设计，而专利权保护制造芯片或实现其功能的“技术思想”。