三者保护客体和方式不同：1. **保护客体**：集成电路布图设计专权保护的是集成电路中元件和互连线路的三维配置（布图设计）。专利权保护技术方案（发明、实用新型）或外观设计。著作权保护文学、艺术和科学领域内具有独创性的表达。2. **保护要件**：布图设计需具有独创性（非公认常规设计）。发明专利需具备新颖性、创造性、实用性。著作权要求独创性（独立创作）。3. **权利取得**：布图设计需登记后生效。发明、实用新型需经过实质审查授权。著作权自创作完成自动产生。4. **保护期限**：布图设计保护期15年（自创作完成或首次商业利用起算，以较前为准，但需登记）。发明专利20年，实用新型10年。著作权为作者终生加死后50年。它是独立于专利和著作权的特殊知识产权类型。